主题：芬兰倍耐克公司的技术交流

时间：05/28/2010  14：00-16：00

地点：行健楼913

内容：

1． 原子层沉积（ALD）工艺原理。

2． 原子层沉积（ALD）技术在光学方面的应用。

3． Aalto University 在原子层沉积（ALD）技术在光学和光子学方面应用研究情况说明。

4． 原子层沉积（ALD）在光纤掺杂方面的应用。

报告人介绍：

Tapani Alasaarela 博士目前在芬兰倍耐克公司从事 ALD技术和工艺的研发工作，同时他还在Aalto University （http://www.aalto.fi/en/）从事原子层沉积薄膜材料在光子学应用的研究工作。